支原體去除劑的工作濃度及使用方法

支原體去除劑Zell Shield?工作濃度及使用方法

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發(fā)表時間:2024-03-28 15:07

每次使用細(xì)胞支原體去除劑Zell Shield?之前,務(wù)必先用廠家推薦的“懸浮沖洗法”處理細(xì)胞,這樣才能達(dá)到更好的支原體祛除效果。

細(xì)胞支原體去除劑Zell Shield?1:100濃度可直接加入培養(yǎng)基。例如:500ml培養(yǎng)基中添加5ml Zell Shield?50mL/瓶的Zell Shield?可供5L培養(yǎng)基使用。

Zell Shield 800.png

在每次使用Zell Shield?之前,細(xì)胞傳代時,先使用廠家推薦的懸浮沖洗法處理好細(xì)胞,再使用加了Zell Shield?的培養(yǎng)基養(yǎng)細(xì)胞,能達(dá)到更好的祛除支原體的效果。

在祛除細(xì)胞支原體污染的過程中,需要環(huán)境、試劑及耗材確保潔凈,無新的支原體污染加入。

只要如法操作,在使用細(xì)胞支原體去除劑Zell Shield?四代后,細(xì)胞中的支原體即可祛除。

細(xì)胞支原體去除劑Zell Shield?常規(guī)為-18℃保存,建議使用前,先融化分裝,仍舊-18℃避光保存,使用時按需融化配制。避免反復(fù)凍融。

廠家推薦的“懸浮沖洗法”(重要!)

(1)據(jù)研究表明,約98%的支原體存在于細(xì)胞表面和細(xì)胞間隙。細(xì)胞傳代時,用干凈的PBS反復(fù)懸浮沖洗,就能把70%以上的支原體沖下來。

(2)支原體直徑遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于細(xì)胞直徑。通過低速離心,很容易將細(xì)胞和支原體分離,棄上清即可祛除大部分支原體。



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