支原體去除劑的工作濃度及使用方法

每次使用細胞支原體去除劑Zell Shield?之前，務必先用廠家推薦的“懸浮沖洗法”處理細胞，這樣才能達到更好的支原體祛除效果。

細胞支原體去除劑Zell Shield?按1:100濃度可直接加入培養基。例如：500ml培養基中添加5ml Zell Shield?，50mL/瓶的Zell Shield?可供5L培養基使用。

在每次使用Zell Shield?之前，細胞傳代時，先使用廠家推薦的“懸浮沖洗法”處理好細胞，再使用加了Zell Shield?的培養基養細胞，能達到更好的祛除支原體的效果。

在祛除細胞支原體污染的過程中，需要環境、試劑及耗材確保潔凈，無新的支原體污染加入。

只要如法操作，在使用細胞支原體去除劑Zell Shield?四代后，細胞中的支原體即可祛除。

細胞支原體去除劑Zell Shield?常規為-18℃保存，建議使用前，先融化分裝，仍舊-18℃避光保存，使用時按需融化配制。避免反復凍融。

廠家推薦的“懸浮沖洗法”（重要！）

（1）據研究表明，約98％的支原體存在于細胞表面和細胞間隙。細胞傳代時，用干凈的PBS反復懸浮沖洗，就能把70%以上的支原體沖下來。

（2）支原體直徑遠遠小于細胞直徑。通過低速離心，很容易將細胞和支原體分離，棄上清即可祛除大部分支原體。